如何在不同工艺间进行设计的移植转换

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对项目而言，有时会有工艺转换的需求(process porting) 即将整个项目从一个工艺移植在另一个工艺上。

例如，从「SMIC180」工艺转成「TSMC180」的工艺，我们则需要：

• 把当前SMIC设计库的电路使用的器件，替换成TSMC对应的器件
• 更新器件参数，如修改MOS管的长宽比
• ……
  
  

以上两点，基本上是移植工艺所需要的步骤。

在实现方法上，你可能首先想到的一个通用的方法就是手动进行替换，但这种方式比较耗时，也容易出错。

所以，有没有办法实现自动更改替换呢？

解决方案
下面就来介绍一种利用SKILL脚本，快速实现整个库的电路设计转换方法。
操作步骤：1）下载SKILL文件
  
⇨   PS：此代码来自_Cadence官方_非原创
2）在CIW窗口中输入以下命令，加载SKILL文件

⇨   PS：引号内的内容修改成 .il 文件所在的路径

3）在CIW窗口中继续输入命令，打开 migration 选项卡

4）在弹出的选项卡中，设置转换信息

（ Migration 选项卡 ）

4.1 Target library：下拉菜单选择要进行移植的设计库

4.2 Target cells：选择一个或多个Cell进行迁移，点击「+」确定

4.3 Target libs and cells：列出了所有待转换的库和单元

4.4 mapping file：指定移植转换的「.Map」映射文件

4.5 Choose view type：选择转换的视图类型，提供Schematic和Layout两种类型

4.6 Backup original：是否需要自动备份原始的视图

4.7 Recreate inst：是否需要重新调用器件以使用默认参数值

在这里我们需要编写一个「.map」文件，来映射转换库之间的对应关系。

格式如下：

1. oldLib oldCell oldView oldProp1 ... oldProp99 # newLib newCell newView newProp1 ... newProp99

复制代码

格式介绍：
编写Map文件时，主要需要填写转换的Library名称、Cell名称、视图名称以及器件参数名(可选)。其中，前面红色字体是转换前的信息，后面绿色字体部分则是转换后的，当中通过「#」隔开。
示例解析：下面是以SMIC转成TSMC为例，编写的一个示例：

（ .map文件编写示例 ）

SMIC库的各项信息写在前面，需要对其进行三个symbol的转换，即：

• n18e2r
• p18e2r
• pnp18
  
  

接着写上对应的TSMC库的信息，三个symbol分别对应：

• nmos2v
• pmos2v
• vpnp
  

由于两个库定义的器件属性名称不同，因此它们的转换关系也需要列出。其中MOS管的属性「w」对应「wf」，「fw」对应「w」......

另外，你可以通过CIW窗口，选择「Tools」-「CDF」-「Edit...」来查看器件的各项参数的名称定义。

就像这样，很容易找出两者的区别：

（ Prop1 ... Prop99信息 ）
5）完成上述设置后，点击「OK」开始转换

电路经过转换后，可能会出现器件参数显示的值与实际参数值不一致的问题，所以还需要通过以下步骤对CDF进行更新。
6）返回CIW窗口中输入命令，加载第二份SKILL文件

7）在CIW窗口中继续输入命令，执行更新操作
注：引号中的内容是转换库的Library名称

以上，是对不同工艺间进行原理图转换的一个流程介绍。文字版阅读起来不清晰的话，下方还附带了一个简单的操作视频，可直接下载查看~